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평양집적회로시험공장

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package.lua 80번째 줄에서 Lua 오류: module 'Module:Message box/localize' not found. package.lua 80번째 줄에서 Lua 오류: module 'Module:Message box/localize' not found. package.lua 80번째 줄에서 Lua 오류: module 'Module:Message box/localize' not found. 평양집적회로시험공장(平壤集積回路試驗工場)은 1983년부터 건설이 되기 시작을 하였는데 이때 유엔 UNDP의 지원으로 인도 기업의 하청을 받아서 건설되어 국가 과학원 전자 공학 연구소옆에 건설이 되었음을 알수가 있고 360평 면적으로 건설이 되었다.

그리하여 조선민주주의인민공화국은 4년이 지난 1987년 건설이 완료가 되어 조업이 시작을 하기 시작을 하였음을 알수가 있었고 이때 동적 램을 개발하기 시작을 하였다.

개요[편집]

조선민주주의인민공화국은 360평 면적으로 700명의 인력으로 집적회로 제작에 나섰으며 하지만 결국 하지만 실패의 연속으로 계속 반도체 생산은 실패하고 많은 인력이 죽음을 당하고 말았다.

그리하여 결국 인도 기업의 노하우를 전수를 하였지만 결국 이때는 고난의 행군 전이었고 연속이었지만 결국 많은 일을 하여 결국 16MB 동적 램를 1987년에 평양 집적회로 시험 공장에서 개발을 하여 1990년에 개발한 대한민국보다 3년 앞서서 개발하는 쾌거를 이룩하였다.

그리고 1991년에는 64MB 동적 램을 개발하여 대한민국보다 겨우 3개월 늦은 수준으로 개발하여 엄청난 쾌거를 이륙했지만 이 이후에 결국 조선민주주의인민공화국은 1989년 개발한 60만 개의 표준셀 이후 개발을 멈출 수 밖에 없었다.[1]

7.1 경제 개혁 조치[2][편집]

고난의 행군 이후 국가 과학원은 예산 체계로 운영이 되었음을 알수가 있었으나 2002년 7.1 경제개혁조치 이후로 집적회로 시험 공장을 비롯한 모든 중간 공장 생산품을 수익 창출 방향으로 연구와 생산 방향을 정할 수 있도록 독립 채산제를 전면적으로 실시를 하였다.

그리고 이것을 통하여 집적회로 시험 공장 역시 집적회로 생산품을 특히 자체 자산을 마련하기 위하여 파운드리할 수 있는 발판을 마련할 수 있도록 설정을 하였고 특히 군수품을 납품할 때 국정 가격으로 납품이 가능하도록 설정을 하였다.

특히 여기에서 운영하는 연구원들을 다른 공장에 전출이나 혹은 그런데로 진출을 할 때 생산에 직접적인 영향을 주게끔 훈련을 시킬 수 있다.

그리고 조선민주주의인민공화국은 Glocom을 발판으로 설계를 하여 평양 집적회로 시험 공장에 파운드리를 할 수 있는 기반을 가지고 있으며 그만큼 조선민주주의인민공화국은 자체 자산을 위한 발판을 마련하여 자체 수익 방향을 결정할 수 있는 권한을 가지고 있으며 계획외 30% 생산도 국정 가격으로 공급할 수 있다.

12.1 경제 개혁 조치[3][편집]

김정은의 집권 이후 조선민주주의인민공화국은 예산제에서 전면적으로 독립채산제로 설정을 하였으며 특히 평양 집적회로 공장평양 집적회로 시험 공장과 리철호 가 사업하는 기계 공장에도 전면적으로 독립채산제를 갖추어 나가기 시작하였다.

2014년에는 기업이 가격을 제정할 수 있는 상품의 범위를 확대한 것으로 여기에는 대학에서 첨단기술제품을 수요자와 계약에 따라 생산하여 내화 및 외화로 판매하는 제품의 가격과 주문계약으로 생산한 제품 가운데 외화로 원가를 보상하여야 할 제품의 외화가격 등이 포함되었다.

특히 반도체나 특히 소프트웨어 등을 개발하여 판매한 수익을 자체로 예산에 포함시켜서 수익사업에 나설 수 있도록 전면적으로 허용을 하였으며 특히 국정가격의 판매를 전면적으로 없애고 자율적으로 시장에 의하여 조절할 수 있도록 허용을 하였다.

평양 집적회로 시험 공장 개발품[편집]

현재 조선민주주의인민공화국과학기술발전 3개년 계획에서 개발한 1987년에 16MB 디램과 1991년에 개발한 64MB 디램을 개발을 하게 되었으며 특히 1989년에는 60만 개의 표준셀 과정을 개발을 하게 되었고 특히 초대규모 CMOS 회로를 개발을 하게 되었다는 것이다.[4][5][6]

1차 과학기술발전 5개년 계획에서는 1999년에 김일성 종합 대학에서 주사전자현미경을 개발을 한 것에 대하여 성공을 거두었으며 특히 알루미늄 적층 CMOS를 개발하여 차후에 마이크로컨트롤러 및 동적 램을 개발할 여건을 마련을 하게 되었다.[7]

특히 대규모 집적회로를 개발할 수 있는 폴리이미드 2층 배선 절연막 기술도 개발을 하게 되었으며 음극 비산 식각법에 의한 알루미늄 배선 형성 기술을 개발을 하는데 성공을 거두었다.[8][9]

2차 과학기술발전 5개년 계획에서는 2003년에 평양 집적회로 시험 공장에 3층 구조에 의한 미세 패턴 리소그래피 기술을 확보하는데 성공을 거두었고 2004년에는 4700S 전자빔 리소그래피 장비를 들여와서 28nm 파운드리 생산 기술까지 갖출수 있도록 하였다.[10][11]

그리고 EEPROM 낸드 플래시 메모리 제작 기술을 확보하는데 성공함으로써 우리나라와 같은 길로 들어섰으며 8월 13일에는 16비트 마이크로컨트롤러 GC-8100A 제작 기술 확보하여 집적회로 시험 공장에서 파운드리를 하여 실증하는데 성공을 거두었다.[12][13]

2005년에 16비트 마이크로프로세서 GC-9211A 제작 기술 확보하였고 김장순 박사 명의로 0.5um 초점심도의 위상 반전 마스크 개발 확보에 성공을 거두었다.[14][15]

2006년에 집적회로 연구소에서 과산화 수소에 의한 알루미늄 배선 기술을 확보하는 데 성공을 함으로 특히 과산화 수소로도 알루미늄 배선 기술이 가능하다는 것이입증이 되었다.[16]

2007년 1월 6일 조선중앙통신 보도에서 조선민주주의인민공화국에서 45nm ASIC 설계 기술 및 제작 기술을 확보하는 데 성공을 하였다고 특종보도를 하였다.[17]

3차 과학기술발전 5개년 계획에서는 2008년 김천남 박사가 개발한 20nm급 표준셀의 패터닝 기술을 확보하는데 성공을 거둠으로써 특히 집적회로 시험 공장에 파운드리로 실증하는데 성공하였다.

2014년에는 0.3um 피사계 심도의 위상 반전 마스크 개발에 성공하여 20nm급 ASIC 설계 및 제작 기술을 확보하는 데 성공을 하였음을 조선중앙통신이 보도를 하였다.[18][19]

2017년 LP형 HKMG 기술을 확보하는 데 성공을 거둔 111호 마스크 제작소김정은 명의로 된 축하문을 111호 마스크 제작소에 송부하였고 2017년중앙처리장치를 핵심으로 하는 SoC 제작 기술을 확보하는데 성공을 거두었다.[20][21]

2017년에는 10nm FinFET 제작 기술을 확보하는 데 성공을 거두었고 2019년에는 7nm FinFET 제작 기술을 확보하는데 성공을 거둔 것을 내나라에 특종 보도가 되어 논란이 일고 있다.[22][23]

평가[편집]

현재 조선민주주의인민공화국은 상당히 전자 공업에 투자를 하고 있으며 특히 반도체 개발에 적극적인 모습을 보이고 있어 현재 반도체 생산 장비나 특히 리소그래피 장비를 일본니콘의 생산 장비를 들여오고 있고 특히 에칭 장비는 독일의 Singulus 장비를 들여와서 개발을 하고 있다.

전자 공업 비약적 발전[편집]

김정일김정은은 현재 반도체 장비를 자신의 예금에 맞게끔 들여오고 있으며 특히 리철호가 사업하는 기계 공장89호 집적회로 공장, 그리고 평양 집적회로 시험 공장에도 들여왔을 것으로 알려져 충격을 주고 있다.

더군다나 제프리 루이스 박사는 리철호가 사업하는 기계 공장을 특정하여 반도체 생산을 중점적으로 하고 있다고 밝혔으며 특히 실제로도 조선중앙TV로도 입증이 되어 보여주었다.

현재 제프리 루이스 박사와 오경섭 연구원은 리철호가 사업하는 기계 공장과 더불어 89호 집적회로 공장에도 반도체 설비가 그것도 최신으로 있을 것으로 알려져 있다.[24]

조선민주주의인민공화국은 삼성전자가 개발한 수준인 20nm급 저전력 LP형 HKMG 개발에도 성공하여 김정은 명의로 축하문을 111호 마스크 제작소에 전해주었다는 것을 밝혔으며 이를 로동신문이 보도하였다.

그리고 SoC 개발에도 2019년 성공하였다고 조선중앙통신내나라에도 보도하여 엄청난 충격을 주고 있고 특히 대서특필 되어 나타나고 있다. 그만큼 현재 전자공업이 군수용 장비를 개발하는데 투자를 아끼지 않고 있다.

파운드리 공정으로 인한 자체 수익 사업[편집]

2000년부터 김정일은 독립채산제로 인한 자체 수익 사업을 권장하며 방위산업이든 일반 산업이든 자체 수익 사업으로 통한 30% 계획 초과 생산분으로 시장가격에 판매가 가능하도록 세부계획지표를 조정을 지시하였고 이때 7.1 경제개혁조치에서 발표가 되어 2004년에 공식적으로 중앙공업에도 적용이 되었다.

특히 평양 집적회로 공장과 평양 집적회로 시험 공장, 리철호가 사업하는 기계 공장, 89호 집적회로 공장팹리스 사업으로 111호 마스크 제작소Glocom 등 많은 제작 사업을 벌이고 있으며 이때 반도체 사업으로 65nm 공정과 45nm 공정, 20nm 공정을 완료하고 팹리스는 111호 마스크 제작소 혹은 Glocom을 통하여 수주를 받은 다음 파운드리로 평양 집적회로 시험 공장이나 혹은 리철호가 사업하는 기계 공장에 작업을 하여 하청을 받는 형식으로 운영하고 있다.

이때 무역회사로 주선을 받으며 이때 TSMC나 혹은 삼성전자로 수주가 실패할 때 차선책으로 권유를 받고 수주를 받고 있으며 이때 수익 사업을 자체적으로 벌이고 있다.

특히 독립채산제로 인하여 더욱 그 경쟁 상대가 치열하여 할인 가격으로 맞서고 있으며 특히 내부적으로도 경쟁 관계에 있다.[25][26]

논란과 의혹[편집]

반도체 장비 불법 수입 의혹[편집]

특히 2004년에는 MEBES-4700S 전자빔 리소그래피 장비를 평양 집적회로 시험 공장 및 111호 마스크 제작소에서도 수입을 한 사실이 드러나 평양 집적회로 공장에도 수입을 하였다는 의혹을 사고 있다.[27]

하태경 의원실에 밝혀온 기록에 따르면 반도체 장비인 불화수소 및 전략 물자 등 30건 이상을 수출한 나라는 오로지 일본 뿐이라는 사실을 알려주었는데 그외에도 리철호가 사업하는 기계 공장에 반도체 생산 설비가 있는 것으로 조선중앙TV에서 밝혔다.[28]

그만큼 현재 조선민주주의인민공화국은 많은 반도체 생산 장비를 포함한 레지스트와 불화수소를 비롯한 많은 설비를 비싼 가격에 수입을 할 가능성이 아주 없지 않다.[29]

그리고 조선중앙TV와 제프리 루이스 박사의 증언에 따르면 현재 리철호가 사업하는 기계 공장을 보여주었는데 그만큼 의심나는점이 많으며 현재 조선민주주의인민공화국니콘의 집적회로 생산 설비와 함께 독일불화수소 에칭 장비와 일본의 ALD 증착장비와 프랑스의 PECVD 증착장비와 세정 장비와 중국의 Deburring 패키징 장비를 보유하고 있으며 5개 이상의 장비를 가지고 있다고 밝혔다.

2019년에는 SoC를 개발하여 2020년 Glocom에서 ARM 마이크로프로세서와 SPARC 마이크로프로세서를 설계하여 위에 있는 공장에 파운드리를 맡겨 미사일 공장이나 기계 공장에 시장가격보다 약간 낮은 가격에 납품을 하고 있다.[30]

조선 부강 무역회사와 백송 무역회사로 통한 소프트웨어 혹은 하드웨어 거래[31][편집]

조선민주주의인민공화국은 백송 무역회사를 통한 국가과학원 전용 무역회사를 통하여 소프트웨어 혹은 마이크로프로세서팹리스 사업을 통한 거래를 하고 있다고 포항공대 박찬모 교수께서 직접 증언을 하였으며 특히 이것으로 통한 자체 수익사업을 벌이고 있다.

특히 백송 무역회사뿐만 아니라 룡봉총회사를 통한 조선부강무역회사리철호가 사업하는 기계 공장89호 집적회로 공장을 소유하고 있으며 비로봉 무역회사Glocom을 소유하고 있다.

그만큼 현재 무역회사를 통한 소프트웨어나 하드웨어 즉 마이크로프로세서를 거래하고 있다는 정황이 포착이 되고 있다.

각주[편집]

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  4. 16MB 디램 제작 기술 - 김영, 주상철 저, 1991.07.17
  5. SM-52/12형 컴퓨터의 64MB 디램 제작 기술 - 김치영, 홍동만, 김종근 저, 1991.07.17
  6. 3중 확산법으로 초대규모 CMOS 회로 제작 기술 - 과학원 집적회로 연구소, 1990.12.16
  7. Al - B 확산 기술에 의한 출력 CMOS 제작 - 김책 공업 종합 대학, 1999.11.13
  8. 폴리이미드에 의한 2층 배선 층간 절연막 형성 기술 - 과학원 집적회로 시험 공장, 1999.11.16
  9. 음극 비산 식각법에 의한 Al 2층 배선 제작 기술 - 집적회로 시험 공장, 1999.11.13
  10. 3층 가림막 구조에 의한 미세 패턴 리소그래피 기술 - 집적회로 시험 공장, 2003.12.02
  11. MEBES-4700S 위상 반전 마스크 제작하기 위한 노광 기술 - 국가과학원 111호 마스크 제작소, 2004.08.05.
  12. EEPROM 낸드 플래시 메모리 제작 기술 - 국가 과학원 111호 마스크 제작소, 2004.08.05
  13. 16비트 마이크로컨트롤러 GC-8100A 개발 기술 - 국가 과학원 111호 마스크 제작소, 2004.08.13
  14. 16비트 마이크로프로세서 GC-9211A의 개발 기술 - 김승철, 김명길, 리정국 저, 2005.08.20
  15. 광학 노광 합치 장비용 위상 반전 마스크 제작 기술 - 김장순, 전세인, 명일룡, 김교윤 저, 2005.08.20
  16. 과산화 수소에 의한 AI 배선 제작 기술 - 집적회로 연구소, 2006.08.05
  17. 조선중앙통신, 2007.01.06
  18. 20nm 표준셀 패터닝 제작 기술 - 김천남, 방인섭, 전호일 저, 2008.02.12
  19. 조선중앙통신, 2014.12.29
  20. 로동신문, 2017.07.01
  21. 로동신문, 2017.06.20
  22. 내나라, 2017.01.16, 2019.03.18
  23. 조선중앙통신, 2019.10.30
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  25. 스크립트 오류: "Citation/CS1" 모듈이 없습니다.
  26. 스크립트 오류: "Citation/CS1" 모듈이 없습니다.
  27. MEBES-4700S 위상 반전 마스크 제작하기 위한 노광 기술 - 국가과학원 111호 마스크 제작소, 04.08.05.
  28. 스크립트 오류: "citation/CS1" 모듈이 없습니다.
  29. 스크립트 오류: "citation/CS1" 모듈이 없습니다.
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